| 產(chǎn)品類別 | 細(xì)分 | 產(chǎn)品名稱 | 主要成分 | 主要應(yīng)用領(lǐng)域 | 具體用途 |
| 通用濕電子化學(xué)品 | 單酸類 | 電子級(jí)磷酸 | H3PO4 | 集成電路披蚕、顯示面板 | 主要用于集成電路、顯示面板制造過程的蝕刻等工藝 |
電子級(jí)硫酸 | H2SO4 | 集成電路骂领、顯示面板 | 主要用于集成電路讹渴、顯示面板制造過程的蝕刻装屈、清洗等工藝 | ||
| 其他類 | 電子級(jí)雙氧水 | H2O2 | 集成電路 | 主要用于集成電路制造過程的清洗、蝕刻等工藝 | |
| 功能濕電子化學(xué)品 | 蝕刻液 | 硅蝕刻液 | H3PO4擒欢、H2SO4愕炸、HNO3、HF幔嫂、NH4F | 集成電路 | 主要用于減薄辆它、打毛、多晶硅蝕刻履恩、氧化硅蝕刻等工 |
| 金屬蝕刻液 | H3PO4锰茉、H2SO4、HNO3切心、HF飒筑、CH3COOH、H2O2绽昏、I2协屡、KI | 集成電路、顯示面板 | 主要用于金屬鎢全谤、鋁肤晓、銅、鈷认然、鎳补憾、銀、金反俱、鈦等結(jié)構(gòu)層的蝕刻工藝 | ||
| 清洗劑 | NMP忱厨、PGMEA、PGME炸一、環(huán)戊酮 | 集成電路 | 主要用于硅晶圓非金屬膜層清洗或去除 | ||
| 顯影液 | KOH | 集成電路鲤瞪、顯示面板 | 主要用于顯影工藝，用于去除曝光后的光刻膠 | ||
| 薄膜液 | DMSO校槐、 MEA揉拯、 NMP | 集成電路、顯示面板 | 主要用于光刻膠的剝離和清洗工 | ||
| 再生劑 | 按需定制 | 集成電路瀑乡、顯示面板 | 主要用于特殊工序制作不達(dá)標(biāo)時(shí)返工工藝 | ||
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